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CLP30-200B1_06

EXSHINE Artikelnummer:EX-CLP30-200B1_06
Hersteller Artikelnummer:CLP30-200B1_06
Hersteller / Marke:STMicroelectronics
Kurze Beschreibung:ASD (Application Specific Devices) Overvoltage and overcurrent protection for telecom line IC
Bleifreier Status / RoHS Status:Bleifrei / RoHS-konform
Bedingung:New and unused, Original
Datenblatt herunterladen:CLP30-200B1_06
Anwendung:-
Gewicht:-
Alternativer Ersatz:-
Echtzeitverfügbarkeit für
CLP30-200B1_06
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Produktparameter

Stromspannung -
Geschwindigkeit -
Serie CLP30-200
Verpackung Original
Betriebstemperatur -
Befestigungsart -
Feuchtigkeitsempfindlichkeitsstufe (MSL) 1
MFG-Teilecode CLP30-200B1_06
Eigenschaften -
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Datumscode New

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Distributor von STMICROELECTRONICS

- Storm Interface - Der Zweck des Unternehmens: Entwicklung, Herstellung und Vermarktung von robusten und reaktionsschnellen Datenerfassungsgeräten für den Einsatz in einer Vielzahl von industriellen und öffentlichen Anwendungen.
Keymat Technology Ltd. wurde im März 1986 als eine private in Großbritannien registrierte Firma gegründet. Das Unternehmen hat seinen Sitz in einem eigenen Eigentum westlich von London, nur vier Meilen nördlich vom Flughafen Heathrow. Die Produktionsabteilung des Unternehmens "Storm Manufacturing" hat ihren Sitz in Maldon an der englischen Ostküste und die nordamerikanische Vertriebsabteilung befindet sich in Glen Ellyn, Illinois, außerhalb von Chicago.
Die von der Firma entwickelten Kerntechnologien sind durch internationale Patente und Patentanmeldungen geschützt. Diese Technologien werden weiterhin entwickelt und in neue, innovative Produkte integriert, um die etablierte Produktpalette zu ergänzen und zu ergänzen.
Diese Strategie der kontinuierlichen Entwicklung hat es dem Unternehmen ermöglicht, eine breitere Palette von Datenerfassungsprodukten unter einer einzigen starken Marke "STORM" zu vermarkten. Dies sind Premium-Markenprodukte, die die anspruchsvollen technischen und leistungsbezogenen Standards widerspiegeln, die in der heutigen militärischen, medizinischen, industriellen und öffentlichen Umgebung gefordert werden.

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